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TEM小室在電磁兼容檢測中的應用
作者:  日期:2018-06-14  瀏覽次數:6193次  來(lái)源:
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       隨著(zhù)電磁兼容檢測技術(shù)的發(fā)展和提高,人們正針對不同的電子電器產(chǎn)品尋求更為簡(jiǎn)單便捷的檢測方法,尤其對于小型的電子產(chǎn)品,如:電動(dòng)玩具、集成電路(PCB板)、汽車(chē)電子零部件等。
       電磁兼容性的測量手段主要是由測試場(chǎng)地和測試儀器組成。常規的電磁兼容檢測方法有屏蔽室法、開(kāi)闊場(chǎng)法、電波暗室法等。
       屏蔽室:在EMC測試中,屏蔽室能提供環(huán)境電平低而恒定的電磁環(huán)境,它為測量精度的提高,測量的可靠性和重復性的改善帶來(lái)了較大的潛力。但是由于被測設備在屏蔽室中產(chǎn)生的干擾信號通過(guò)屏蔽室的六個(gè)面產(chǎn)生無(wú)規則的漫反射,特別是在輻射發(fā)射測量和輻射敏感度測量中表現更嚴重,導致在屏蔽室內形成駐波而產(chǎn)生較大的測量誤差。
       電波暗室:通常所說(shuō)的電波暗室在結構上大都由屏蔽室和吸波材料兩部分組成。在工程應用中又分全電波暗室和半電波暗室。全電波暗室可充當標準天線(xiàn)的校準場(chǎng)地,半電波暗室可作為EMC試驗場(chǎng)地。電波暗室的主要性能指標有“靜區”、“工作頻率范圍”等六個(gè)。但建造電波暗室的成本、難度均相當高,因為暗室的工作頻率的下限取決于暗室的寬度和吸收材料的長(cháng)度、上限取決于暗室的長(cháng)度和所充許的靜區的最小截面積。且由于吸波材料的低頻特性等原因,總的測試誤差有時(shí)高達幾十分貝。
       由于開(kāi)闊場(chǎng)、屏蔽室和電波暗室的部分缺點(diǎn),1974年美國國家標準局的專(zhuān)家首先系統的論述了橫電波傳輸小室(簡(jiǎn)稱(chēng)GTEM小室),其外形為上下兩個(gè)對稱(chēng)梯形。橫電波小室具有結構簡(jiǎn)單、檢測方法簡(jiǎn)便等特點(diǎn)。標準TEM小室的測量尺寸大約限定在設計的最小工作波長(cháng)的四分之一范圍,但對于小尺寸的被測件,可以滿(mǎn)足測試的要求和技術(shù)指標。
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